质量流量计/质量流量控制器在半导体行业中应用(三)

发布日期:
2020-06-05
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质量流量计/质量流量控制器在半导体行业中应用(三):

半导体行业中最常用的化学气相沉积法(CVD)是指使用化学气体或蒸汽或多种特殊混合气体在晶片等基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,而各种气体的进气量则需要气体质量流量计/质量流量控制器来精确的测量和控制。该方法是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料都可以用化学气相沉积来实现。
从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料通过气体质量流量计/质量流量控制器来精确的测量和控制按比例精确导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。沉积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮气反应形成的是利用气态物质通过化学反应在基片表面形成固态薄膜的一种成膜技术。
通常CVD(化学气相沉积法)包含有下列几个步骤: 
A.通过气体质量流量计/质量流量控制器来精确的测量各种反应气体向基片表面扩散;B.反应气体吸附于绝缘材料等基片表面;C.在绝缘材料等基片表面发生化学反应;D.在绝缘材料等基片表面产生的气相副产物脱离表面向空间扩散或被排气系统抽走;E.绝缘材料等基片表面留下不挥发的固相反应产物合成涂层或纳米材料等薄膜。
而这半导体行业中最常用的化学气相沉积法整个过程中各种气体的精确比例控制依靠气体质量流量计/质量流量控制器来实现则就显的尤为重要。

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